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曝光機用來生成精細電路，應用場域從PCB軟板到高階半導體製造；隨著不同產業，曝光機的定位有別。德揚光電總經理朱仁亮表示，德揚發展光罩對準曝光機多年，用在黃光製程，產品線完整，除獲二極體及被動元件產業採用，手動及半自動曝光機也獲得學校、研究單位好評使用。
朱仁亮表示，德揚以優越的UV曝光源光學路徑設計，加上採用優良UV鏡及透鏡元件，曝光機精度達到1um。此外，德揚握有機構設計能力，可自製UV LED曝光源，取代汞燈曝光源，具有省能源、無汞特點，且與汞燈曝光源設計相近，以透鏡組取代橢圓鏡收光，保留均勻化與平行光設計、氣冷散熱性佳。
線路製造工藝離不開曝光技術，製造成本比重35%以上。曝光機是大規模製造集成電路的關鍵設備，廣泛用於微機電、光電、二極體及被動元件領域，也是半導體生產的核心設備。產業界大量採用全自動、高產量曝光機、全自動雙面曝光機等，德揚的機台售價不到千萬元，半導體步進機開價1億元起跳，相距極大；每分鐘最高產能達6片基板，與售價相近的其他廠牌產能高出兩倍。
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