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汎銓（6830）今（8）日公布2023年5月營收新台幣1.70億元，月增5.5％、年增25.9％，創歷年單月次高成績。累計前五月合併營收達7.40億元，年增16.7％，則創歷年同期新高。
汎銓說明，5月業績報喜，主要受惠半導體相關客戶積極加大材料分析(MA)委案，加上汎銓戮力完備專業檢測分析人才擴增、優化材料分析檢測工法，並結合自行開發「智慧e系統」之生產管理等多項效益展開，帶動旗下材料分析檢測人均產值逐月攀升，係汎銓單月營收已連續三月繳出雙位數年增成長表現，5月營收更締造歷年單月次高之主要關鍵。
展望未來營運，汎銓表示，持審慎樂觀看法。汎銓致力深化材料分析、故障分析(FA)關鍵分析技術研發與關鍵專利佈局，保持檢測分析技術領先地位，更為國際半導體大廠先進技術之重要隱形推手，同時精進檢測分析工法、擴增兩岸專業分析團隊，並持續評估針對全球各半導體產業聚落設立業務據點，擴大全球業務接單動能，近期已備齊未來十年產能擴增所需場地，隨著今年7月起採購新進分析設備陸續到位，有助於催動旗下材料分析業務成長引擎，並繳出更為亮麗的營運成績單。
各國半導體發展方興未艾，加上AI(人工智慧)、電動車等趨勢浪潮，國際半導體大廠對於先進製程、先進封裝研發投入更趨積極，持續擴大整體檢測分析市場商機，汎銓強調，多年協助半導體相關主要客戶在先進製程、先進封裝研發演進與良好成效，奠定深厚業務合作黏著度。
此外，汎銓提到，根據比利時微電子研究中心(IMEC)最新發布先進製程藍圖，隨著FinFET電晶體結構將於3奈米達盡頭，將朝向環繞式閘極(GAA)電晶體結構，並預估2024年進入量產階段，由於GAA相較FinFET結構越趨複雜，不僅推升材料分析委案量增加，且GAA製程技術將有更多道製程採用極紫外光(EUV)光阻之敏感材料，更能展現汎銓材料分析自有專利技術優勢。
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