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英特爾近期宣布，採用極紫外光（EUV）技術的Intel 4製程技術在愛爾蘭新廠進入量產，加上計劃在德國建造的晶圓廠和在波蘭組裝測試廠，英特爾將在歐洲打造端對端的先進半導體製造價值鏈。
英特爾今天發布新聞稿指出，Intel 4採用的EUV技術廣泛用於先進半導體製程，支援最精密的運算應用，例如人工智慧（AI）、高階行動網路、自動駕駛、新資料中心和雲端應用等。
英特爾目標在4年內實現5個節點（node，半導體每一世代製程的差距），以及2025年前重返製程技術領先地位，因此EUV技術至關重要。
英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）表示，矽島（silicon isle）一直是英特爾長期策略的核心，愛爾蘭Fab 34晶圓廠的落成將有助於實現歐盟目標，建立更具韌性且永續的半導體供應鏈。
Intel 4技術在英特爾位於美國奧勒岡州的開發廠進行製程開發和早期量產，相較於早期技術，大幅改善效能、功耗和電晶體密度。
今天英特爾也發布愛爾蘭氣候行動計畫，詳細說明英特爾努力減少溫室氣體（GHG）排放、能源使用、用水和廢棄物掩埋的工作內容。
英特爾指出，位於愛爾蘭萊克斯利普（Leixlip）的Fab 34預計將取得LEED金級認證。新廠房融合多項深化永續的創新設計，例如建造時採用的熱能，以9：1比例來自熱回收和傳統熱能產生方法；由於整合回收材料成分，施工過程使用的大部分均為低碳水泥。
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