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大陸發展半導體業面臨來自美國等國家的技術制裁與「卡脖子」，其中晶片製造關鍵設備光刻機（曝光設備）的缺乏成為大陸科技業者心中痛。因此一段時間以來，大陸部分半導體設備商全力研發、試圖自製光刻機，但目前技術上仍難達先進製程標準。大陸造光刻機延滯關鍵為何？
大陸全國政協委員、合鍛智能董事長嚴建文於今年兩會（政協、人大）期間在北京接受本報專訪指出，其實1980年代大陸就開始造光刻機了，大家清楚製造光刻機的原理，但仍做不到精度和水平，而關鍵在於經驗傳承。
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