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晶片製造設備商艾司摩爾（ASML）周五（9日）首次向媒體展示其新一代極紫外光微影設備（EUV）：大小約一輛雙層巴士、重量約兩架空巴A320飛機、價值高達3.5億歐元（約3.8億美元）的High NA EUV，該設備對ASML在1,250億美元的EUV市場保持領導地位至關重要。
ASML預期，今年能出貨「數台」High NA EUV。該公司說，至今收到的訂單數量在10到20台之間，包括給SK海力士和美光的試點設備，而英特爾奧勒岡廠去年12月已收到第一台設備。ASML正建置產能，以便到2028年能每年交付20台。
這台新的晶片製造神器可在8奈米厚半導體上列印電路，比前一代小1.7倍。電路愈細，晶片上可安裝的電晶體愈多，處理速度和記憶體的表現就愈佳。ASML高階主管表示，該設備對人工智慧（AI）發展至關重要。
ASML發言人莫爾斯（Monique Mols）周五在媒體參觀該公司荷蘭總部時說，安裝這套重達15萬公斤的系統，要用到250個貨箱、250名工程師，且需時6個月。
由於美國試圖遏制尖端技術出口並抑制北京的半導體雄心，這些設備不會銷往中國大陸。分析師指出，對艾司摩爾而言，High NA EUV問題在於不知道有多少客戶準備改用這種高成本設備。
Semianalysis分析師科赫（Jeff Koch）說：「雖然部分晶片製造商可能較早期採用，以獲得技術領先地位，但在這種新設備展現經濟合理性之前。大多數製造商不會用。」客戶可能選擇等待，從現有工具獲取更多利潤。
科赫的計算表明，要到2030~2031年左右，轉向到新技術才具成本效益。這也意味，從2027~2028年ASML增產到幾年後新技術被全面採用之間，High-NA EUV的產能可能過剩。
ASML自2018年開始銷售的Low-NA EUV，標價是1.7億歐元。
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