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艾司摩爾（ASML）說，已經開始將第一套最新半導體先進製程設備「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）系統的主要部分出貨給英特爾（Intel）。未具名的知情人士告訴彭博資訊，這套最尖端晶片製造設備，是送到英特爾位於美國奧勒岡州的工廠。
ASML在社群平台X上貼出照片說：「我們很興奮也很驕傲，運送第一套High-NA EUV到英特爾。」
據了解，ASML這套最先進微影設備的主要機件，已經運抵英特爾奧勒岡州D1X廠。彭博向英特爾與ASML查證時，兩家公司都不評論機器設備的目的地。
彭博分析指出，High-NA EUV製程技術對ASML與英特爾都非常重要。英特爾執行長基辛格承諾要最先拿到這款最新型的機器，展現英特爾重新投入製造技術第一線。ASML推出最新的High-NA EUV設備，目標在保持晶片廠對其設備的依賴。
去年ASML曾經在一份聲明中提到，英特爾計劃2025年開始以這套最新設備生產先進製程晶片。英特爾的D1X廠是公司研發與精進優化未來生產技術的設施。
ASML是全球最大的微影系統設備供應商，微影技術應用於先進晶片關鍵製程。獨家製造的極紫外光（EUV）設備，供應給台積電、三星電子和英特爾生產最先進晶片。
ODDO BHF分析師團隊上個月在報告中估計，ASML這套最先進製程設備，一套的價格大約2.5億歐元（2.75億美元）。它的第二代，生產力將會再提高，價格預料會超過3.5億歐元。
A decade of groundbreaking science and systems engineering deserves a bow! 🎀 We're excited and proud to ship our first High NA EUV system to @intel. ✈️🌎 pic.twitter.com/wtVn4fmq9D
— ASML (@ASMLcompany) December 21, 2023
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