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韓媒: ASML 明年生產10台2奈米 EUV 設備 傳英特爾搶下6台

ASML的組裝工程師正投入EUV設備的組裝作業。 路透
ASML的組裝工程師正投入EUV設備的組裝作業。 路透

本文共839字

經濟日報 編譯葉亭均/綜合外電

南韓科技媒體SamMobile報導,南韓三星電子執行董事長李在鎔上周訪荷蘭時,與半導體製造設備大廠艾司摩爾(ASML)簽訂合資建立研發設施的歷史性協議,將有助於三星進攻2奈米晶片的發展。報導同時指出,ASML計劃明年生產10台能生產2奈米晶片的設備,而英特爾(Intel)據傳已經搶下其中的六台。

SamMobile報導指出,ASML將在未來幾個月內推出生產2奈米晶片的設備,最新的EUV微影設備,預計將讓數值孔徑(NA)從0.33提高至0.55,讓光學系統的收光能力更強,將有助於晶片製造廠利用超精細圖案化技術來生產2奈米晶片。

報導說,ASML計劃明年生產十台這款設備,而英特爾據傳已經買下其中的六台。ASML計劃未來幾年要改善產能,年產20台。

至於三星則計劃在取得2奈米晶片製造設備後,將在2025年底開始生產2奈米晶片。然而,就像任何技術和策略計劃一樣,這類晶片的推出時程也可能延後,取決於市況和製造品質。

SamMobile的報導指出,李在鎔從荷蘭回到南韓後,表示他對三星與ASML簽署的合資建立研發設施協議感到滿意。三星上周和ASML簽署以1兆韓元(7.55億美元)在南韓投資建立半導體晶片研發設施的協議,未來將在該設施研發EUV技術。

三星電子領導裝置解決部門的負責主管慶桂顯強調,該公司的最新協議有助於取得下一代高數值孔徑EUV微影設備。他說,「三星已經取得高數值孔徑設備技術的優先權。 (從這趟旅程)我相信我們創造了機會,能優化利用高數值孔徑技術,長期有利於我們生產DRAM記憶體晶片和邏輯晶片」。

報導說,在即將設立、位於京畿道東灘的晶片研發設施,來自ASML和三星電子的工程師將合作改善EUV晶片製造技術。這項協議不是聚焦把2奈米晶片製造設備引入南韓,而是聚焦兩家公司的合作關係,以便讓三星能夠更好地利用下一代的設備。


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