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日本政府已批准多達1,920億日圓（13億美元）補貼，支持美光科技（Micron）在廣島廠生產新一代晶片，也進一步強化日本本土的半導體製造基地。另據日經新聞報導，東京當局最快12月放寬土地使用管制措施，以吸引半導體等關鍵商品生產商赴日設廠。
經濟產業大臣西村康稔3日表示，這筆經費將協助美光引進艾司摩爾（ASML）生產先進晶片的極紫外微影（EUV）設備，這些晶片將是驅動生成式AI、資料中心和自駕技術的關鍵。
西村在例行記者會上說：「目前市況不佳，但在這種時候投資是不可少的。」他說，目的是為確保日本未來經濟安全所需先進晶片供應無虞。美光已表示，計劃在日本投資5,000億日圓，以最先進製程1-gamma技術生產新一代晶片。
美光2013年併購日本DRAM大廠爾必達（Elpida）事業，在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。
日經3日報導，為吸引晶片、儲存電池和生技業者設廠，日本當局最快將於12月鬆綁土地使用規定，同時也會透過法規改革和稅務與預算方案，促進國內投資，這些都將納入岸田當局預定本月底公布的最新經濟政策。
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