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日補貼美光13億美元

本文共459字

經濟日報 編譯劉忠勇/綜合外電

日本政府已批准多達1,920億日圓(13億美元)補貼,支持美光科技(Micron)在廣島廠生產新一代晶片,也進一步強化日本本土的半導體製造基地。另據日經新聞報導,東京當局最快12月放寬土地使用管制措施,以吸引半導體等關鍵商品生產商赴日設廠。

經濟產業大臣西村康稔3日表示,這筆經費將協助美光引進艾司摩爾(ASML)生產先進晶片的極紫外微影(EUV)設備,這些晶片將是驅動生成式AI、資料中心和自駕技術的關鍵。

西村在例行記者會上說:「目前市況不佳,但在這種時候投資是不可少的。」他說,目的是為確保日本未來經濟安全所需先進晶片供應無虞。美光已表示,計劃在日本投資5,000億日圓,以最先進製程1-gamma技術生產新一代晶片。

美光2013年併購日本DRAM大廠爾必達(Elpida)事業,在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。

日經3日報導,為吸引晶片、儲存電池和生技業者設廠,日本當局最快將於12月鬆綁土地使用規定,同時也會透過法規改革和稅務與預算方案,促進國內投資,這些都將納入岸田當局預定本月底公布的最新經濟政策。

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