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半導體檢測分析廠汎銓（6830）今（3）日舉行竹北營運二廠開幕典禮，董事長柳紀綸指出，新廠開始營運後，將可望增加大約三成產能，若加上南京實驗室及即將開幕的日本新實驗室據點，預期今年全年整理產能將可望大增三成，準備好迎接今年下半年即將到來的半導體旺季商機。
此外，汎銓持續衝刺先進製程商機，柳紀綸表示，公司會持續布局先進製程的檢測分析市場，隨著製程持續微縮，有信心汎銓能掌握更多客戶訂單。
汎銓竹北營運二廠今日舉行新廠開幕典禮，占地大約760坪，全力衝刺占汎銓營收比重最大的材料分析（MA）商機。柳紀綸表示，營運二廠開幕後，新設備將會分批在四年陸續進駐，既有設備將會移轉到中國南京實驗室及今年即將開幕的日本東京實驗室。
其中，柳紀綸指出，在營運二廠開始運行後，預估汎銓在台灣的實驗室今年產能將可望增加20～30％；中國南京則可望增加40～50％的產能，主要承接當地晶圓代工及IC設計客戶訂單；日本東京實驗室由於是新設據點，目標是鎖定IDM及晶圓代工廠的MA及故障分析（FA）。
整體來看，柳紀綸預估，汎銓今年全年產能將可望增加大約三成，且可望在今年中逐步到位。柳紀綸指出，從當前狀況來看，先進製程客戶需求仍相當旺盛，但成熟製程需求表現仍然疲弱，從客戶端反饋來看，預期下半年有機會同步迎來先進及成熟製程需求回溫，屆時汎銓業績有機會同步轉旺。
除此之外，隨著先進製程持續往2奈米以下推進，屆時不論台積電（2330）、英特爾及三星都將更改材料架構，對於半導體檢測分析市場將可望帶來新商機。汎銓指出，公司目前正在承接晶圓代工大廠的2奈米製程前期MA訂單，更先進的1.4奈米製程後續有信心持續掌握。
汎銓指出，在製程推進到2奈米以下後，代表晶圓製程需要檢測的細節也就更多，汎銓已經掌握相關專利及利基點，且客戶的新架構材料將會更鬆軟，使檢測精密將需要更高，這會是汎銓在MA、FA等檢測分析的優勢。
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