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艾司摩爾（ASML）已開始將第一台最新半導體先進製程設備「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）系統出貨給英特爾，將用於英特爾的18A半導體製程。這款EUV曝光機造價昂貴，據信每台要價約3億美元至4億美元。
根據資訊科技網站Tom's Hardware報導，正如ASML在9月所宣布，該公司本周開始把高數值孔徑EUV微影設備運送給英特爾。這款機台是從ASML荷蘭總部所在地的費爾德霍芬，運到英特爾在美國奧勒岡州D1X廠，並且要在接下來幾個月內在當地進行安裝。
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