Canon推新半導體曝光機 宣稱價格會比ASML少一個零

佳能（Canon）計劃將新推出的晶片製造設備的價格，訂在比艾司摩爾（ASML）最先進的EUV曝光機少一位數，以搶攻尖端晶片設備市場。

彭博資訊報導，佳能的「奈米壓印」微影設備，能讓較小型的晶片製造業者也能夠生產先進晶片。佳能執行長御手洗富士夫表示，「價格將比艾司摩爾的EUV機具少一位數」，最終訂價尚未決定。

由於日本對晶片製造設備的出口限制中並未點名奈米壓印機具，因此佳能10月推出的這項新產品有可能外銷中國大陸。不過御手洗表示，佳能可能無法對中國出口機具。他說，「我的了解是，禁止對中國出口任何能製造小於14奈米晶片的科技，因此我不認為我們將能夠出售」。日本官員表示不能對此發表看法。

佳能的機具是將電路型態直接壓印在晶圓上，效果與最先進的科技無二，不過製造晶片的速度較慢，可以讓廠商生產較小量的晶片；佳能新機具的耗電量是EUV的十分之一。