力旺衝刺先進製程 報捷
矽智財(IP)廠力旺(3529)與台積電在先進製程合作報捷,昨(16)日宣布旗下NeoFuse技術於台積電先進製程開發,不僅於第1季完成N5製程認證,N4P製程認證也預計於今年底完成。
另外,汽車應用的N5A製程認證也於4月設計定案(tape-out),預計於2024年初完成,有助挹注營運。
力旺昨日獲頒台積電開放創新平台OIP年度合作夥伴獎,已連續14年得獎。力旺是台積電長期合作夥伴,截至目前為止,已部署近740個IP在台積電各個製程平台上。
力旺指出,正規劃布局更先進的N3E、N3P與N3AE等技術平台,該公司長期致力於IP創新,與台積電共同在各製程平台布建可靠的NVM IP解決方案。
力旺總經理何明洲提到,NeoFuse技術成功在N12、N7、N6與N5製程取得量產紀錄,台積電的技術與支持是這項成功的關鍵要素。立基於NeoFuse技術上的晶片指紋NeoPUF和一系列PUF安全解決方案的應用範圍,同樣受惠於上述進展。
何明洲認為,從應用面來看,包括AI、高效能運算、汽車、物聯網等領域,都需要NVM和安全IP,這些年力旺也在NeoFuse技術上持續開發NeoPUF衍生晶片安全解決方案來保護整體晶片和系統運作。
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