分子尼奧 釋放NIL奈米壓印技術潛力

AI化晶片、AR眼鏡，甚至量子光裝置，未來皆有可能以「壓印」方式來製造。隨著AI和量子科技快速進展，傳統規模化製造方式已跟不上多變AI設計需求。「奈米壓印技術」（Nanoimprint Lithography，NIL）的新型製程技術，將成為打造新世代電子與光學裝置製造的關鍵。以低成本低碳製造出極細微、極精密的結構，提升效能，並且更節能與靈活。

分子尼奧（Quantum NIL）深耕奈米壓印技術領域，專為人工智慧化晶片、AR眼鏡和超穎光學鏡頭（metalens）等高科技產品，提供高階奈米圖案專業代工服務，團隊具備豐富的材料與化合物半導體背景，可依需求製造複雜又精細的奈米結構。在全球對節電、高效能光電產品需求增加，憑藉遠見與技術實力，協助提升台灣在奈米製造領域的國際地位和競爭力。

創辦人之一的林仲相博士，台灣大學物理系畢業，取得美國紐約大學物理學博士學位，專長為光子晶體理論與製造，曾任英國IQE奈米壓印事業群與台灣洲磊科技總經理，將累積超過20年光電半導體領域經驗，轉化為分子尼奧的創業基礎。

他指出，隨著AI驅動的設計方法進展迅速，引領量子科技邁向更高複雜度與近似隨機的設計架構，能最佳化系統整合與效能。

AI設計的趨勢對傳統曝光微影技術帶來新挑戰，面對高度多樣化的結構設計與極小尺寸圖案時，現有製程難以滿足。傳統曝光不僅需要克服解析複雜圖案能力的門檻，也難以兼顧彈性、效率與成本控管，導致製程不易擴展至量少多樣的生產需求。

分子尼奧的複合式奈米壓印技術具備高度彈性與跨材料相容性，可與生物聚合物、熱／光抗蝕劑、金屬、塑膠、玻璃、化合物半導體、金屬氧化物、複合材料及生物功能性材料等材料結合，能應用在存在幾何翹曲或厚度差異較大的晶圓，及非平坦和曲面基板，製程適用性超過傳統曝光微影技術。 

NIL將帶有圖案的模板或模具壓入聚合物或抗蝕劑層，完成機械式圖案轉移。不依賴光學成像，特別適合次波長奈米結構的製造，且可避免多次光學鄰近干涉效應修正補償需求，簡化整體製程流程。林仲相說，NIL較傳統曝光微影，不需昂貴的設備與繁瑣製程，是新創研發的理想選擇；與DUV及EUV製程相比，能源與氣體消耗更低，卻能達到相似的關鍵尺寸。

2006年奈米壓印技術（NIL）已展現出製作2奈米超細微結構及微小元件的強大潛力。分子尼奧為NIL技術開拓者，不斷強化新的製程解決方案，還把奈米壓印和傳統製造方法相結合，以「複合式奈米壓印」方案解決兩種技術的銜接問題。透過持續創新，擴大奈米壓印技術應用，打造奈米製造平台的競爭力。