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從製程微控到水去除技術 奇鼎研發強

2019-09-17 22:14經濟日報 楊連基

奇鼎科技展出先進的半導體製程精密溫濕度控制機組系列產品。 楊連基/攝影
奇鼎科技展出先進的半導體製程精密溫濕度控制機組系列產品。 楊連基/攝影
奇鼎科技深耕半導體製程環境控製設備製造、製程機台維修與保養、建廠整合等服務。因有完整的半導體製程經驗與強大的研發團隊作為後盾,與半導體先進世代俱進,持續突破技術瓶頸,帶動晶圓製程良率的大幅提升。

隨著電晶體閘極線寬的逐漸縮小,奇鼎克服製程微縮的環境難題,研發出製程精密溫濕度控制機組(TCU),調節流場、溫度(±0.01度)、溼度(±0.5%RH)以及潔淨度(ISO Class 1)。更進階的曝光機鏡組霧化防護機組(TAU),可去除製程環境中80%以上的氣態分子汙染物(AMC),遏止NH3、SO2等化學品對曝光機造成的鏡組與Lamp霧化、顯影不良、產品缺陷及零件壽命縮減的問題。

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在半導體領域耕耘10餘年後,該公司發現現行的廢氣處理裝置,已不足以供應需求越發嚴苛的半導體製程環境。原先透過濕式洗滌塔+沸石轉輪(Scrubber + Rotor)不僅運轉成本高,且揮發性有機物(VOC)去除效率隨著使用時間降低,身為空氣處理應用的專家,奇鼎突破此困境,研發出酸、鹼與有機物去除效率>90%的半導體製程AMC處理設備(ACU),只使用水作為去除媒介,真正做到低成本、高效率的廢氣污染處理。

強大的研發能量讓企業營運更加穩健,奇鼎科技於今年8月15日,通過經濟部中小企業加速投資行動方案審查會議,將投入資金於新竹縣鳳山工業區擴建新廠,該廠房能滿足美歐日國際設備商供貨需求,帶動台灣產業供應鏈市場走揚,並創造多個本國就業機會。更多公司暨產品詳細資訊,歡迎相關業者於9/18-9/20國際半導體展期間,蒞臨南港展覽館一館4F(攤位:N0481)探討。

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