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汎銓新增二次離子質譜儀 SA表面分析利器

2019-09-17 10:32經濟日報 翁永全

汎銓科技研發團隊不斷精進分析技術,擁有領先業界的半導體材料分析技術能力,並在TEM、FIB及SEM等材料分析服務,發展出專屬的特殊工法。

繼用於最先進製程的極紫外光光阻(EUV PR)及超低介電材料(low-k)材料分析技術後,汎銓第三季設備陣容再升級,新增二次離子質譜儀(SIMS),為SA表面分析的利器,偵測靈敏度達到ppb等級,能分析輕元素,亦能分辨同位素,用來建構三維的結構與成分。

汎銓新增二次離子質譜儀 (SIMS),能分析輕元素,及分辨同位素,用來建構三維的...
汎銓新增二次離子質譜儀 (SIMS),能分析輕元素,及分辨同位素,用來建構三維的結構與成分。 汎銓/提供

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汎銓的 TEM擁有1~2 A的最佳空間解析能力,附加的成分分析分析工具EDS/EELS,偵測極限約1000ppm,低於此偵測極限低濃度,則藉由SIMS分析工具來偵測製程的摻雜離子或汙染物,偵測極限可達ppb水準。SIMS主要用於檢測半導體擴散製程中,參雜離子的濃度及深度,以瞭解離子分佈對元件電性的影響。在RD simulation 驗證、implanter機台,以及製程監控與故障分析,都需要此分析工具。

市場肯定汎銓過去在MA分析的精確度及穩定度具有超水準表現,對於再提供SIMS服務抱持很高的期待。基於「結合精準的空間解析及濃度解析,畢其功於一役」的想法,汎銓今年新增多部設備,待近期完成分析驗證後,將正式展開業務,半導體、LED、III-IV族等光電產業大廠,在製程摻雜離子(電性參數)及汙染物的監控,可獲得精準快速且高品質的分析服務。

汎銓也會投入研發能量,針對SIMS分析技術的新製程試片與特殊需求,研發新工法,解決客戶在表面分析的各種難題,在先進製程研發路上順利推進。

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