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EUV導入晶片量產階段 ASML訂單持續湧入

2018-04-18 17:57經濟日報 曹松清

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)18日公佈2018第一季財報。ASML第一季營收淨額(net sales)22.9億歐元,淨收入5.4億歐元,毛利率(gross margin)為48.7%。預估2018第二季營收淨額 (net sales)將落在25~26億歐元之間,毛利率(gross margin)約為43%,反映EUV營收將大幅增加。

ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示,「第一季業績表現強勁,超出預期,主要來自於大量出貨,以及客戶對於深紫外光(DUV)微影系統和全方位微影方案(Holistic Litho)的需求。在EUV方面,本季我們共完成3台EUV系統的出貨,而另1台則正準備出貨。我們在第一季獲得9台NXE:3400B的訂單,也確認EUV業務持續成長。」

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「近來不同客戶都公開討論將於今年底前將採用EUV進行晶片量產。因此,我們計畫在2018年完成20台EUV系統出貨,並在2019年將EUV出貨量拉升到30台以上,全力協助客戶達成其量產目標。此外,關於下一代High-NA(高數值孔徑)EUV產品,我們也開始從三個主要客戶方面接到4台訂單,並售出8個High-NA EUV系統的優先購買權(options)。」

High-NA是EUV微影技術的延伸,其解析度(resolution)和微影疊對(overlay)能力比現行EUV系統提升70%,能夠實現業界未來對於幾何式晶片微縮(geometric chip scaling) 的要求。「這是一個好的開始,我們也樂觀預期2018年ASML將在業績和獲利能力上持續穩健成長。」溫彼得說。

在深紫外光(DUV)微影方面,該公司最新的NXT機台已經達到每天曝光6,000片晶圓的產能里程碑,支援客戶量產需求。在全方位微影方案(Holistic Lithography)上,第一季已完成採用多重電子束技術(multiple e-beam)的圖案缺陷量測(pattern fidelity metrology)系統—ePfm5出貨。

該系統是ASML收購漢微科後共同研發的產品,具備更高的解析度以檢測系統缺陷。這項創新的電子束量測系統和ASML的運算式微影(Computational Lithography)軟體結合,能夠在實際製造晶片的過程中,即時提供電子束的反饋給微影系統。ASML也已經證實多重電子束能夠進一步提升電子束量測的產能,應用於量產階段。

在極紫外光(EUV)微影方面,吞吐量(throughput)持續提升,在一個客戶端的測試中,達到每小時曝光125片晶圓的量產里程碑,同時在ASML的實驗室中展現每小時曝光140片晶圓的實力。

展望2018年第二季,ASML預估整體銷售淨額可達25~26億歐元,毛利率約落在43%,反映EUV業務的強勁成長。研發投資金額提高到3.75億歐元,而管銷費用 (SG&A) 支出則約1.15億歐元,目標年化稅率約14%。

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