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半導體材料分析技術 汎銓領風騷

2018-03-14 11:05經濟日報 翁永全

汎銓科技董事長柳紀綸(左)、技術長陳榮欽博士。 翁永全/攝影
汎銓科技董事長柳紀綸(左)、技術長陳榮欽博士。 翁永全/攝影
IC產業蓬勃發展,在摩爾定律下,晶圓廠在每個世代的製程競賽中,持續研發新技術與設計,藉著微縮線寬來降低IC成本及提高效能。

汎銓科技面對製程技術與設計不斷演變與改良,持續引進最先進的設備,並投入巨大的研發能量,克服各種先進製程分析的關卡。

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汎銓歷年開發許多分析技術,搶在業界之先,各種全新服務品項也獲得客戶好評及同業跟進效法,成為產業標準。

技術長陳榮欽博士表示,材料分析業只要願意投資,引入先進儀器都不難,但單憑設備無法建立絕對的競爭力。汎銓樂於接受客戶的挑戰並主動研發分析技術;「好的分析設備必須配合優異的試片製備技術,及正確的資料判讀能力,為分析品質的關鍵」,汎銓在這方面一路領先。

EUV光阻是先進製程開發的重要材料之一,材料特性很容易受到製備及觀測而改變原始形貌造成誤判,汎銓開發一系列低損傷工法,可保護易損傷材料,透過良好的試片製備技術及觀測手法,正確地在TEM、 FIB、SEM觀測光阻的橫截面的形貌,以評估曝光顯影狀況,或以特殊的高解析SEM手法來觀測光阻線之間的曝光顯影殘留狀況。

TEM試片製備厚度是TEM分析能力的重要指標,汎銓具有超薄TEM試片5nm奈米的製備能力,居同業之冠。

成分分析的判讀能力也受到客戶肯定,多次為客戶解決長期困擾的難題,協助找出製程開發異常缺陷真正來源,加速研發進度。在專業材料分析服務業界,汎銓領先同業,並且逐漸拉開差距,被國際大廠評為最佳的長期夥伴。

今年中國半導體展,汎銓後(16日)天在上海新國際博覽中心E7館新技術舞台舉行「新技術發布會」,主題為《10 nm技術節點分析(Inside of 10 nm technology node)》,更多資訊見網站:www.msscorps.com。

半導體
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