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羅門哈斯擴廠 稱霸CMP製程供應鏈

2018-01-22 10:06經濟日報 翁永全

半導體化學機械研磨(CMP)製程的研磨機,由美商應材(Applied Materials)、日商荏原(EBARA)及東京精密(ACCRETECH)三分天下,在研磨液(Slurry)及研磨墊(Pad)方面,主要由陶氏集團(Dow Chemical)成員企業羅門哈斯(Rohm and Hass)獨霸市場,研磨墊更取得全球過半市占率。

羅門哈斯竹南廠總廠長陳民光。 羅門哈斯/提供
羅門哈斯竹南廠總廠長陳民光。 羅門哈斯/提供

Rohm and Hass於2005年成立羅門哈斯亞太研磨材料,在竹南科學園區設立第一座海外工廠。陳光民擔任總廠長至今,他回顧一期工廠在2006年啟用隔兩年,就迎來金融海嘯來襲,但營運不受影響,且保持年年成長,近年的成長速度更快。

羅門哈斯多年來持續投資,以滿足客戶及新製程需求,最新的第四期工廠投資金額超過15億元,為苗栗縣歷來少見的重大投資案,因產能提升一倍,業界的領先地位站得更穩,3月26日將舉行啟用典禮,苗栗縣長徐耀昌高度重視,將與該公司及全球半導體客戶高階主管共同出席盛會。羅門哈斯竹南廠為全球最大且最先進的研磨墊製造工廠,並已劃定第五期建廠用地。

CMP的目的在於晶圓平坦化,為晶圓製造的重要製程,去除晶片表面的凹凸不平後,能使半導體元件中分層增加及導線材料多樣性增長。研磨液及研磨墊在晶圓品質上扮演關鍵角色,對羅門哈斯而言,低缺陷率、持續且穩定研磨出高平坦度的晶片,為最基本的要求。

外界可能不知道,一張研磨墊可能產出價值高達百萬美元的晶圓。為確保從第1片到第100萬片均能維持一致的研磨品質,羅門哈斯在技術研發下足了功夫。亞太研發中心位於二期工廠,對於產品配方、材料以及製程參數與研磨節奏等均精確掌控。陳光民表示,對品質、技術及客戶服務有強烈的自我要求,徹底落實六個標準差的營運管理,造就目前的霸業;目前接單及稼動的情況相當健康,可供應90奈米到10/7奈米共數千種產品,最先進的5奈米產品也準備就緒。

陳光民表示,羅門哈斯為全球最大研磨墊供應商,提供亞太市場需求,竹南廠擁有先進的製程設備及技術能力,並做到低污染,符合半導體高潔淨度的要求,落實企業社會責任,卓越的經營績效讓該工廠近年獲獎無數,包括竹科第一座綠建築、全國第一波「綠色工廠」認證、全球100大製造領袖獎、國家工安獎,最近更榮獲行政院頒發2017年「國家永續發展獎」。

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