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MELEC攜手伸昌捐明志科大研究設備

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2017-04-06 21:00 經濟日報 曹佳榮

明志科大校長劉祖華(左四)、薄膜中心李志偉教授團隊與德國MELEC公司總經理Ma...
明志科大校長劉祖華(左四)、薄膜中心李志偉教授團隊與德國MELEC公司總經理Mark、伸昌電機經理林貞沅合影。 明志科大/提供
致力於高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)系統鍍膜技術研究的明志科技大學薄膜科技與應用中心,日前獲德商MELEC與伸昌電機共同贊助捐贈「雙輸出HiPIMS脈衝電源控制器」。該校表示,此項設備有助於執行科技部、教育部與相關產學計畫,進而提升學生實習成效。

明志科大材料系教授李志偉說,薄膜中心整合教授張奇龍、清華大學教授杜正恭、成功大學教授丁志明與虎尾科大教授張銀佑技術專長,於104年開始執行科技部「深耕工業基礎技術專案計畫-先進物理鍍膜技術與鍍膜系統設備開發」多年期研究計畫,其計畫的重點之ㄧ即為發展高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)系統的鍍膜技術與應用推廣;該研究團隊目前在HiPIMS技術鍍製金屬、氮化物、氧化物與碳化物薄膜方面的研究也都有極大突破的發展,成果在亞洲地區已居於領先地位。

由於該系統大幅提高鍍膜品質,並在常溫下鍍膜,因此除了一般金屬、陶瓷與矽材料表面之外,更能在塑膠高分子、布料等材質表面進行高品質的鍍膜,未來在光學、光電、半導體、能源、機械加工、生醫等領域的應用都具有極大的發展潛力。

李志偉指出,由於疊加型設備可將HiPIMS電源與中頻電源整合,大幅改善HiPIMS鍍膜速率偏低的問題,同時保持HiPIMS鍍膜的高硬度等機械特性,對產業界極具吸引力,對於深耕工業基礎技術計畫推廣HiPIMS鍍膜技術至工業界有極大的助益。

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