本文共518字
聯合報 記者蔣永佑／新北即時報導
高檢署智慧財產分署偵辦台積電2奈米洩密案，追出另有台積電前工程師陳韋傑涉嫌竊取核心技術，外洩給跳槽日商東京威力的前台積電工程師陳力銘，以及東京威力盧姓員工涉嫌配合湮滅證據，本月5日追加起訴2人，全案稍早在押的陳韋傑隨卷證移審智慧財產及商業法院，預計下午將開接押庭。
該名遭追加起訴的陳韋傑，去年11月初偵查期間便遭檢方聲押獲准，稍早連同追加起訴的卷證一併移交智慧法院。據了解，法官上午將先閱卷了解案情，預計午休後於下午先由法官獨任開庭，再由合議庭進行評議，決定陳韋傑是否繼續羈押。
起訴指出，檢方查出東京威力的雲端硬碟內，存有台積電國家核心關鍵技術項「項次19」的「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密資料，經清查發現陳姓工程師竊取。
由於陳力銘於偵查中坦承犯行，供出陳姓工程師並順利查獲，故求處7年徒刑，日後可能獲合議庭減刑。陳姓工程師則因犯後態度不佳，遭檢求處8年8月徒刑。
至於東京威力盧姓員工涉嫌在知悉陳力銘犯行東窗事發後，為圖卸責刪除陳力銘上傳相關檔案，有妨害刑事調查情事且否認犯案，遭檢方求處1年徒刑。東京威力因調查過程中，均配合檢方調查提供相關事證，對釐清案情尚有助益，故求處罰金2500萬元。
※ 歡迎用「轉貼」或「分享」的方式轉傳文章連結；未經授權，請勿複製轉貼文章內容
留言