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經濟日報 編譯劉忠勇／綜合外電
艾司摩爾（ASML）稱霸全球半導體微影設備之際，中國大陸也正在這項晶片生產關鍵機台急起直追，紅色供應鏈指標華為扮演要角，惟目前紅鏈技術仍以更成熟的深紫外光（DUV）曝光機為主。
英國金融時報報導，在大陸國產DUV曝光機發展上，華為堪稱扮演統籌者的角色，從曝光機、鏡頭到光源全面布局，並協助國產設備打進中芯國際等晶圓廠。宇量昇共同開發的頭一台大陸自製先進DUV曝光機，更已在中芯和華為自家生產線測試，最終目標是用來生產先進AI晶片。
知情人士透露，宇量昇是從和華為關係密切的新凱來分拆成立，目前正和上海微電子裝備（SMEE）開發多款DUV原型機。中芯已測試宇量昇的28奈米設備，並利用多重曝光技術生產7奈米晶片。
不過，大陸國產設備要達到和艾司摩爾同級機台的生產效率，可能仍需數年驗證和調校。
伯恩斯坦半導體分析師林清遠指出，華為正在大陸DUV發展中扮演「專案管理」角色。光有原型機還不夠，必須整合數千家供應商和客戶共同改良設備，而華為正成為居中協調這套體系的力量。
華為的布局已深入大陸曝光機最難突破的投影鏡頭和高功率光源兩大環節。
華為旗下的哈勃投資和華為支持的深圳遠致星火，都投資超精密光學業者福建至期光子，而這家福晶科技旗下的公司正開發可望取代德國蔡司（Zeiss）的曝光機鏡頭。
哈勃也投資北京科益虹源，這家公司也正和上海微電子合作開發28奈米DUV曝光機光源，力拚取代日本極光先進雷射和艾司摩爾旗下Cymer的產品。
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