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經濟日報 記者朱子呈 、尹慧中／台北即時報導
台積電（2330）董事長暨總裁魏哲家16日於法說會表示，High-NA EUV具備相當優異的效能，但是否正式導入量產，不能只看技術表現，還要同步評估設備成本、技術成熟度，以及曝光區域縮小後對製造流程帶來的影響。
法人在法說會上指出，High-NA EUV曝光區域僅有現行設備的一半，大型晶片可能需要透過晶粒拼接方式完成曝光，可能提高製造複雜度，並進一步影響客戶採用速度。
魏哲家回應，台積電已將High-NA曝光區域縮小至一半的問題，納入整體製造成本與量產評估。他強調，High-NA本身是一項效能很好的工具，但台積電目前仍持續與ASML合作，希望進一步改善設備成本與技術成熟度，使其更符合大規模製造需求。
魏哲家表示，最終仍會依據技術成熟度與成本效益決定是否導入。
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