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美商應材與台積電攜手於應材的EPIC中心合作 加速AI規模化

本文共561字

聯合報 記者簡永祥/台北即時報導

美商應材公司與台積電今日共同宣布,雙方將在應材位於矽谷的EPIC中心合作,開發下一世代半導體元件規模化的材料、設備與製程技術,藉此強化創新能量,並加速突破性技術從研發邁向大量製造。應材表示,這項合作是加速AI 新世代所需半導體技術的開發與商業化。

應材總裁暨執行長蓋瑞.迪克森(Gary Dickerson)表示:「應材與台積公司的深厚合作奠基於互信,以及對推動半導體先進技術創新的共同承諾。透過在 EPIC 中心匯聚雙方團隊,我們將進一步強化這項夥伴關係,並加速技術開發,以因應晶片製造藍圖中前所未有的複雜挑戰。」

台積電執行副總經理暨共同營運長米玉傑表示:「半導體元件架構隨著每一新世代演進,對材料工程和製程整合的要求持續提高。面對AI帶來的全球性挑戰,整個產業需要攜手合作。應材的EPIC中心提供了絕佳的協作環境,加速下一世代技術的設備與製程就緒。」

透過EPIC 中心的合作,應材與台積公司將共同推動材料工程創新,聚焦先進邏輯微縮面臨的最關鍵挑戰。重點領域包括:在先進邏輯節點持續精進功率、效能與面積表現的製程技術,以因應 AI 和高效能運算日益增長的需求;新材料與下一世代製造設備,以精準成形日益複雜的 3D 電晶體與互連結構;先進的製程整合方法,在元件邁向垂直堆疊與高度微縮架構的過程中,提升良率、變異控制與可靠性。

美商應材與台積電攜手於應材的EPIC 中心合作,加速AI規模化 。 (法新社)
美商應材與台積電攜手於應材的EPIC 中心合作,加速AI規模化 。 (法新社)

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