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聯合報 記者蔣永佑／新北即時報導
高檢署智慧財產分署偵辦台積電2奈米洩密案，追出另有台積電前工程師陳韋傑涉嫌竊取公司核心技術，外洩給跳槽日商東京威力的前同事陳力銘；東京威力主管盧怡尹則涉嫌湮滅證據，本月5日追加起訴陳、盧2人。全案今移審智慧財產及商業法院，下午歷經2小時接押庭加2小時評議後，合議庭裁定陳男繼續羈押禁見。
起訴指出，檢方查出東京威力雲端硬碟內，存有台積電國家核心關鍵技術項「項次19」的「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密資料。
偵查期間，因陳力銘供出上述機密是與陳韋傑配合洩漏並順利緝獲，檢方從輕求處7年徒刑，日後可能獲合議庭減刑。陳韋傑則因犯後態度不佳，遭檢求處8年8月徒刑。
至於東京威力盧怡尹在知悉陳力銘犯行東窗事發後，為圖卸責刪除陳力銘所上傳的相關檔案，被檢方認定涉嫌妨害刑事調查且否認犯案，具體求處1年徒刑。
東京威力則因調查過程中，均配合檢方調查提供相關事證，對釐清案情尚有助益，在這次追加起訴中，檢方僅求處罰金2500萬元。
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