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在美國主導管制下，艾斯摩爾（ASML）停止出口極紫外光微影製程設備（EUV）到中國大陸，但大陸積極自主研發自己的EUV設備，更傳出挖角國際專家、且技術突破的消息。《晶片戰爭》作者Chris Miller（克里斯米勒）來台參加論壇時表示，大陸目前在EUV技術上仍落後，尚無法生產商業化的EUV微影機台。他認為美國及合夥夥伴的強力管制，讓大陸短期內無法建立完整的EUV供應鏈，技術管制仍能有效抑制中國大陸最先進晶片製造能力。
他表示，先進EUV設備涉及光學系統、曝光技術等諸多領域，每個領域都需要長期積累，即使大陸招聘專家積極突破，並且以各種手法獲取技術，但目前技術至少落後一個世代，即使ASML也花了30年才讓EUV技術成熟，大陸要完全突破需要10-15年。另外，大陸雖可能透過逆向工程或其他方式，逐步提升其EUV能力。不過因為全球半導體技術快速進步，大陸即使克服EUV挑戰，未來還要面對更先進的技術競爭。
不過他認為，大陸短期內做不出EUV設備，但可能以加強深紫外光微影製程技術（DUV）彌補，使大陸能繼續提升28nm及以上製程技術，但無法與EUV的效率相比。
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