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汎銓秀祕技High NA光阻液、埃米晶片和矽光子檢測分析拔頭籌

本文共866字

聯合報 記者簡永祥/台北即時報導

沈寂半年多的材料分析大廠汎銓(6830)今日由董事長柳紀綸帶領經營團隊對外揭露公司在埃米、AI晶片和矽光子三大領域布局。柳紀綸透露3年前就已和客戶進入「埃米」邏輯先進製程研發,他並秀出今年2月在美國舉行的國際光電論壇中,全球微影設備艾司摩爾(ASML)首次針對高數值孔徑(High NA)中即引用由汎銓所做的High NA EUV光阻劑的材料分析結果,印證進入埃米製程後,為汎銓取得技術領先優勢。

柳紀綸強調,這三年多來和晶圓客戶緊密合作,甚至協助客戶在矽光子檢測及相關矽光電路中有關光波導定位偵測、斷光和光衰退等材料、故障和可靠度分析,成為業界唯一獨攬矽光子所有檢測和分析的廠商,並成功吸引AI晶片大廠將AI晶片開發檢模分析實驗室設計汎銓廠內,讓汎銓掌握AI發展必須AI晶片模擬、埃米先進製程和矽光子檢測及材料分析等龐大機會。

他強調,汎銓就是為配合客戶發展新世代技術,才會去年大舉購置30台先進儀器和設備,但經歷這些過程,今年將是汎銓資本支出最高峰,未來隨著公司新進員工學習曲線逐步成熟,即可隨著相關領域業務量攀升,推升營收和獲利表現。

柳紀綸透露,大客戶首套High NA設備已預定下個月抵台,其中艾司摩爾秀出的High NA光阻液分析,即是由汎銓利用低溫原子層鍍膜技術(LT-ALD)所做的材料分析。

至於矽光子業務,他強調,矽光子是光學元件封裝(CPO)而目前參與矽光子產業最前端且技術難度最高的檢測項目 ,汎銓應是目前參與矽光子聯盟30多家廠中少數真正有營收的廠商。

他透露目前汎銓在先進製程材料分析營收占比約65%,未來將隨客戶推進至埃米世代,營收挹注更明確顯現。而矽光子檢測和分析,將在第4季升溫,估可占營收約10%,隨客戶預估2026年完備,明年營收成長幅度會非常可觀。

至於矽光子檢測技術和團隊,柳紀綸也強調和客戶長期緊密合作,關鍵技術成員也有非常長的資歷,客戶黏著度及員工向心力深厚,不擔心同業挖角。

汎銓預估隨技術布局明年大放異彩,營收和獲利表現有機會回到2023年的水準,等於明年獲利將比今年倍增,2026年將再上層樓。

汎銓董事長柳紀綸(左三)今日率先經營團隊包括營運長周學良(左起)、技術長陳榮欽和...
汎銓董事長柳紀綸(左三)今日率先經營團隊包括營運長周學良(左起)、技術長陳榮欽和營運長廖永順向外界揭露公司在埃米世代、矽光子、AI領域的布局。記者簡永祥/攝影
艾司摩爾秀出的High NA EUV光阻液材料分析即交由汎銓施作,透露在埃米世代...
艾司摩爾秀出的High NA EUV光阻液材料分析即交由汎銓施作,透露在埃米世代奪得先機。圖/汎銓提供

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