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TechTechPotato YouTube 近期上傳台積電（2330）資深副總暨副共同營運長張曉強29分鐘、近半小時的訪談，期間張曉強回應主持人提問關於高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影設備相關議題時提到，相信台積電研發團隊會做出最好決定，在合適的技術節點採用。
主持人提問最近參訪晶圓廠，了解到ASML最新的high-NA EUV微影設備，而英特爾公開提到希望成為率先採用的廠商，不知道台積對high-NA EUV應用有什麼規劃？
張曉強回應說，相信台積電研發團隊將繼續專注於新的EUV應用，這明顯包含高數值孔徑極紫外光設備，我們將選擇合適的技術節點來使用，畢竟需要考慮很多因素。
張曉強也說，顯然存在可擴展性因素，還有製造成本因素，所以我相信我們的研發團隊會做出最好的決定，在何時何處選擇下一代EUV來應用。
張曉強先前在台積電技術論壇提到說明，台積電2024年會擁有高數值孔徑EUV工具但還不準備運用新工具來生產，主要使用目的是跟夥伴進行研究。
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