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彭博資訊報導，日本和荷蘭可望加入美國進一步限制中國大陸取得先進半導體設備的行列，三國官員最快在美國時間周五（27日）就供貨陸廠的新一套規範完成協商。如此聯手之下，勢將阻礙大陸自行開發晶片的能力。
知情人士透露，美國、荷蘭、日本官員到美東周四晚上仍在華府進行協商。知情人士透露，管制可能逕行實施，不會公開宣布內容。
報導指出，荷蘭政府將擴大對艾司摩爾（ASML）設限，禁止該公司出售所謂深紫外光微影（DUV）設備給大陸，日本也將同樣對Nikon設此管制。艾司摩爾已無法供應陸企用於先進製程的極紫外光（EUV）設備，如今成熟製程生產所需的DUV設備也將在管制之列。
拜登政府已於去年10月發布新規定，限制美國製造商向大陸客戶提供最先進的晶片製造設備，並限制美國人為大陸半導體公司工作。
自民黨貿易和工業委員會委員青山繁晴接受彭博訪問時表示，大陸官方「100%肯定」會報復日本對拜登政府限制半導體出口的支持，面臨影響的公司應該在其他地方尋找市場。
青山主張這些日本公司應該「以此為轉折點，尋找其他市場」。他表示支持日本參與管制。
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