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全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)日前宣布擴產EUV與DUV乃至於下世代EUV設備計畫，業界估，從客戶應用來看估計晶圓代工需求最強，特別是先進製程技術投資欲小不易，將持續帶動ASML長期成長明朗。
依據ASML說明，儘管目前整體環境呈現短期的不確定性，仍見長期在晶圓需求與產能上的健康增長。
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ASML提到，各個市場的強勁成長、持續創新、更多晶圓代工廠的競爭，以及技術主權競爭，驅動市場對於先進與成熟製程的需求，因而需要更多晶圓產能。
在擴產方面，ASML說明，計劃將年產能增加到 90 台 EUV 和 600台 DUV 系統（2025-2026 年），以及 20 台High-NA EUV 系統（2027-2028 年）。
目前一線半導體大廠多已預購High-NA EUV 設備，該公司在去年底至今年上半年陸續收到大客戶訂單，其中2022年初收到最新款High-NA EUV 的「EXE:5200」首張訂單，貨主為英特爾，英特爾目標該設備2025年加入量產，業界並推測台積電（2330）（2330）、三星也在去年分別訂購EXE:5000設備。
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