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默克和美光開發替代性蝕刻氣體 降低溫室氣體排放

本文共828字

聯合報 記者簡永祥/台北即時報導

默克今日宣布,與創新記憶體和儲存解決方案全球領導者美光科技聯手開發用於半導體製程,能降低全球暖化潛勢的氣體解決方案(GWP)。經過一年的持續合作,美光正在測試默克研發部門提供的低GWP替代性蝕刻氣體,以驗證其製程性能,從而取代傳統的高GWP材料。目標在半導體製程中導入全新且更具永續性的氣體解決方案。

默克集團執行董事暨電子科技事業體執行長凱.貝克曼表示,永續發展仰賴整個產業的同心協力,而不是單一企業的孤軍奮戰,也無法限縮於單一公司的範疇之內,需要整個半導體產業鏈的攜手合作,一同發展更新穎的解決方案,以實現更大規模的永續目標。

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凱.貝克曼說,與默克一樣,美光也設定了遠大的永續發展目標,默克很榮幸能夠為實現這個目標貢獻我們的能力。

美光運營中心團隊和採購企業副總裁 John Whitman說,美光的新目標是,在2030年減少42%的全球營運所造成的碳排放(相較於2020年),為此,美光採取多項措施以實現凈零碳排的運營承諾,包括:投資先進的減排系統,優先使用全球暖化潛勢較低的氣體,外購節能設備,以可再生能源取代石化能源等。美光也很高興在默克的幫助之下,以創新合作達到永續目標。

長久以來,默克與美光科技建立互相信賴的事業夥伴關係,而本次降低全球暖化潛勢氣體的合作更為雙方的永續合作邁出了第一步。兩家公司皆致力於發掘有助實現永續發展目標的新穎材料,以取代現行應用於乾蝕刻與光罩清洗製程的多種高暖化潛勢的蝕刻氣體。

今年5月,默克的氣候目標通過第三方單位科學基礎減量目標倡議SBTi(Science Based Targets Initiative)的審核,確認其有助於將全球平均升溫控制在攝氏1.5度內,同時也符合《巴黎氣候協定》的要求。

默克並承諾在2030年前將公司直接排放(範疇1)與用電產生排放 (範疇2)的總溫室氣體排放量降低50%,這些溫室氣體排放大多來自於電子科技產業所需的特殊化學品相關製程,透過製程改善,默克在未來將可大幅降低溫室氣體的排放量。

默克和美光開發全新的氣體解決方案,將有助半導體製程更加永續。圖/默克提供
默克和美光開發全新的氣體解決方案,將有助半導體製程更加永續。圖/默克提供

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