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半導體先進製程大戰 EUV新設備飆天價

本文共532字

經濟日報 記者尹慧中/台北報導

英特爾、三星、台積電(2330)(2330)等半導體大廠先進製程大戰如火如荼開打,對極紫外光(EUV)設備需求大增,EUV獨家供應商艾司摩爾(ASML)下世代EUV設備再飆上新天價。

據了解,有別於前一代的EUV ,下世代High-NA EUV 設備因為精密度更高、設計零件更多,價格水漲船高,其中,最新款由英特爾率先下訂的機種「EXE:5200 」系統報價逾3.4億美元(近新台幣95億元),再創歷史新高價。

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台積電今年大舉拉高資本支出,總金額上看440億美元,年增幅33%起跳,相關支出多數用於先進製程,業界認為,3奈米製程朝2奈米推進,下世代EUV設備扮演關鍵角色,英特爾、三星、台積電都積極投入相關設備預訂採購。

艾司摩爾統計,該公司去年第4季High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000)系統在手訂單已有五台,業界推估每台報價約3億美元,來自英特爾、三星、台積電這三大主要客戶。

艾司摩爾並在2022年初收到最新款High-NA EUV首張訂單,貨主為英特爾。「EXE:5200」為0.55數值孔徑High-NA EUV 微影技術首度商轉,英特爾目標該設備2025年加入量產,業界估計該設備報價超過3.4億美元,較前一代價格增逾13%,為史上最貴EUV機台。

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