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半導體極紫外光（EUV）設備獨家供應商艾司摩爾（ASML）下世代EUV設備再飆上新天價，據了解，有別於前代EUV 下世代High-NA EUV 設備因為精密度更高與設計零件更多價格自然水漲船高，其中最新款由英特爾率先下訂的機種EXE:5200 系統報價逾3.4億美元，已再創歷史新高。
台積電（2330）（2330）大舉拉高資本支出多數用於先進製程，業界認為，先進製程3奈米發展至2奈米最關鍵在下世代EUV設備的熟練生產，同時英特爾、三星也積極投入相關設備預定採購。
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ASML 統計，在去年第4季High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000)系統已有5台在手訂單，業界推估每台報價已約3億美元，來自三個主要客戶。
ASML 並在2022 年初收到最新款High-NA EUV （TWINSCAN EXE:5200 ）的首份訂單，該訂單依據ASML與英特爾說明是最新下世代EUV設備並率先由英特爾下單，EXE:5200 為 0.55 數值孔徑High-NA EUV 微影技術首度商轉，英特爾目標該設備2025年量產，業界估計該設備報價超過3.4億美元，較前一代價格增逾13%。
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