• 會員中心
  • 訂閱管理
  • 常見問題
  • 登出

英特爾搶先成為艾司摩爾High-NA EUV設備首位買家

本文共636字

經濟日報 記者鐘惠玲/即時報導

英特爾與半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)強化合作關係,於今(19)日共同宣布,英特爾已向ASML下訂業界首台TWINSCAN EXE:5200 系統訂單;這是一款具備High-NA的極紫外光(EUV)大量生產系統,每小時具備200片以上晶圓產能。

ASML總裁暨技術長Martin van den Brink表示,英特爾的遠見與對ASML High-NA EUV的早期承諾,是其不斷追求摩爾定律的絕佳佐證。相較於目前的 EUV系統,ASML持續創新拓展EUV路線圖,進一步降低複雜性、成本、週期時間和所需能量。

推薦

英特爾先前已於去年7月宣布其部署首款High-NA技術的計畫,其先前也是ASML TWINSCAN EXE:5000系統的首位買家,該公司規畫將於2025年開始以高數值孔徑EUV進行生產製造。

英特爾執行副總裁暨技術開發事業部總經理Ann Kelleher指出,該公司的重點就是保持半導體微影技術的領先地位。透過與ASML的密切合作,將汲取High-NA EUV的高階析度圖案化優勢,做為延續摩爾定律的其中一個方式,並將追尋電晶體微縮的優良傳統延續下去。

TWINSCAN EXE:5000 與EXE:5200系統,與之前EUV機器所具備的0.33數值孔徑鏡片相比,提供精確度提升的0.55數值孔徑,為更小的電晶體特徵提供更高的解析度圖案化。先前在2021年的投資者關係日,ASML已分享其EUV路線圖規劃,並表示High-NA技術有望自2025年開始支援生產製造。

※ 歡迎用「轉貼」或「分享」的方式轉傳文章連結;未經授權,請勿複製轉貼文章內容

延伸閱讀

上一篇
TOYOTA首款電動車bz4X登台 IKKA-KY後續營運受惠
下一篇
被動元件廠攻車用 營收占比拉升

相關

熱門

看更多

看更多

留言

完成

成功收藏,前往會員中心查看!