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英特爾擴展與ASML合作 下訂首台先進EUV系統

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中央社 記者張建中新竹19日電

英特爾(Intel)今天宣布,已向半導體微影設備廠艾司摩爾(ASML)下訂首台具備高數值孔徑(High-NA)的極紫外光大量生產系統TWINSCAN EXE 5200,延續雙方長遠合作關係。

英特爾表示,去年7月即公開宣布部署首款High-NA技術的計畫,確立電晶體創新路線圖發展。其實英特爾早在2018年便是之前TWINSCAN EXE 5000系統的首位買家,這次下訂TWINSCAN EXE 5200,是延續與ASML的合作關係。

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英特爾指出,保持半導體微影技術的領先地位是英特爾的重點,去年持續不斷打造EUV的專業知識和能力,透過與ASML的密切合作,將汲取High-NA EUV的高階析度圖案化優勢,作為延續摩爾定律的其中一個方式,並將英特爾追尋電晶體微縮的優良傳統延續下去。

ASML的EXE平台為極紫外光(EUV)技術的演化步驟,英特爾表示,其包含新穎的光學設計與大幅提升速度的光罩與晶圓階段。

英特爾指出,系統所具備的數值孔徑結合使用波長,決定了最小能夠印製的特徵尺寸。TWINSCANEXE 5000和EXE 5200系統與之前EUV機器所具備的0.33數值孔徑鏡片相比,提供更高精確度的0.55數值孔徑,為更小的電晶體特徵提供更高的解析度圖案化。

英特爾表示,2025年將開始以高數值孔徑EUV進行生產製造。新下訂的TWINSCAN EXE 5200每小時具備200片以上晶圓產能。

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