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在台積電（2330）（2330）先前採購EUV (極紫外光) 微影系統設備之後，英特爾今日和ASML共同宣布首度率先採購下世代最新EUV設備High-NA，並計畫2025年導入量產。
依據雙方今日共同新聞稿提到，英特爾和ASML加強合作，推動High-NA在2025年投入製造，此次是英特爾率先且首次訂購ASML的TWINSCAN EXE：5200系統，象徵著邁出關鍵一步。
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ASML並未揭露哪家半導體廠率先採用下世代EUV，不過自2018年已經接獲4台新一代High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000) 訂單，當時就被業界點名是台積電率先預定。
如今英特爾則率先採採購TWINSCAN EXE：5200，讓ASML再度接到一筆新的High-NA EUV訂單。
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