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經濟日報 記者馬琬淳／台北即時報導
半導體特化材料大廠新應材（4749）受惠2奈米製程放量，與深紫外光(DUV)光阻國產化替代商機，22日盤中大漲約5%，並一度衝上1,080元，創下歷史新高。
新應材3月營收4.3億元，月減2.8%、年增32.6%，創單月歷史次高，第1季累計營收12.4億元，年增29.8%，創單季歷史新高。
新應材專攻半導體特化材料，其中在先進微影製程上，產品有表面改質劑(Rinse)、洗邊劑（EBR）、清洗劑(Cleaner)和底部抗反射層（BARC），也耕耘先進封裝材料。
分析師表示，新應材受惠台積電（2330）先進製程需求提高趨勢不變，新應材的EBR和BARC已打入2奈米製程供應鏈；產能方面，高雄一期產能滿載，二期廠預期將供應N3、N2製程材料，預計2027年首季量產，產能規劃可滿足客戶至2030年的需求。
另外，新應材DUV體系的KrF光阻液材料，打破長期由日廠主導的現狀，預計2027年完成客戶驗證，2028年量產出貨。目前半導體材料營收占比已接近九成。
法人預估2026全年營收將隨N2放量迎來逾三成的高成長，全年EPS有望挑戰17元新高。
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