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美光解散上海DRAM設計團隊

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防挖角、技術外流 將從150人挑選40多位核心員工移民美國 最快今年內完成 西安廠不會異動

美光解散上海DRAM設計團隊。圖為美光西安廠。 網路照片
美光解散上海DRAM設計團隊。圖為美光西安廠。 網路照片

本文共796字

經濟日報 記者林宸誼/綜合報導

美光科技正在解散150人規模的上海研發中心旗下的DRAM設計部門,並挑選40多位核心研發人員提供移民美國的資格,預計最快在今年內完成。業內人士認為美光的大動作可能是為了防止人才被挖角及技術外流。

大陸積體電路及手機網站集微網報導,多位美光前員工與在職員工證實,美光此次並非解散整個上海研發中心,而是僅僅解散了DRAM設計部門,該部門總人數超過100人。

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除了該團隊,美光上海研發中心還包括銷售、測試等多個部門。另外,美光目前在西安的工廠也不會發生其他異動,該廠主要開展積體電路裝配與測試以及DRAM模組製造。

美光員工指出,上海的DRAM設計團隊的解散將於今年內完成,公司提供技術移民美國資格的消息屬實,部分核心員工將可以攜帶家屬一同移民至美國,目前仍無法確定有多少員工會選擇移民。

一位前美光員工則透露,美光的DRAM設計團隊先前已有一大批人員,被挖角到大陸本土IC設計公司和儲存大廠。

某半導體行業高管評論認為,美光解散DRAM設計團隊,很有可能是出於防止技術外流的考慮,雖然目前大陸境內的DRAM企業數量相對較少,但未來幾年內或有可能湧現出新的幾家DRAM製造商,而且現有的DRAM企業也正求才若渴,美光此舉或是想將產品的設計和研發收攏至大陸以外地區。

該行業高管指出,美光對智慧財產權保護的重視程度由來已久,先前美光就曾因商業機密洩露將聯電告上法庭。不過在2021年11月26日,美光與聯電共同宣布達成全球和解協議,將各自撤回向對方提出的訴訟,聯電將向美光一次支付金額保密的和解金,雙方在聲明中均表示,期待未來達成共同的商業合作機會。

美光在該智慧財產權訴訟結束時就曾強調,智慧財產權保護是美光賴以保持競爭力重要基石。

市場調研公司Counterpoint報告顯示,三星以41.5%的市占率居市場首位,SK海力士市占率29.3%排第二,美光則為23.4%居第三,前三大廠合計占DRAM市場94.2%。

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