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防技術外洩? 傳美光將解散上海DRAM設計團隊

本文共631字

聯合報 記者黃雅慧/即時報導

據陸媒「集微網」消息指出,市場近日傳出,美光科技正在解散150人左右規模的上海研發中心,並挑選40多位核心研發人員提供技術移民美國的資格。有業界人士分析稱,美光解散DRAM設計團隊很有可能是出於防止技術外洩的考慮,並將產品的設計和研發收攏至大陸以外的地區。

報導指出,多位美光前員工與在職員工表示,美光此次並非解散整個上海研發中心,僅僅解散DRAM設計部門,該部門總人數超過100人。集微網也通過美光員工證實,上海DRAM設計團隊將在今年內完成解散,公司提供技術移民美國資格的消息屬實,部分核心員工將可攜帶家屬一同移民美國,但目前無法確定有多少員工會選擇移民。

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一名美光前員工透露,「美光的DRAM設計團隊此前有一大波人員流失至(大陸)國內的本土IC設計公司和存儲大廠」。

因此,有半導體行業內人士分析,美光解散DRAM設計團隊很有可能是出於防止技術外洩的考慮,雖然目前大陸的DRAM企業數量相對較少,但未來幾年有可能湧現出新的幾家DRAM製造商,且現有DRAM企業也正求才若渴,美光此舉或是想將產品的設計和研發收攏至中國大陸以外地區。加上美光十分重視知識產權保護,因此有可能超前部署。

市場調研公司Counterpoint的報告顯示,目前在全球市佔率中,三星(41.5%)與SK海力士(29.3%)、美光(23.4%)便掌握全球九成份額。反觀大陸DRAM企業相對少,目前專注於DRAM存儲晶片共有三家公司,分別為紫光南京、福建晉華、合肥長鑫等,仍難與國際大廠相提並論。

據傳,美光將解散上海DRAM設計部門。路透
據傳,美光將解散上海DRAM設計部門。路透

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