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芯上微裝0.35微米曝光機獲大廠訂單「卡脖子」真的快有解了嗎？

上海微電子28nm浸沒式光刻機（ArFi）傳今年4月進入批量交付階段。新華社

本文共1834字

2026/08/13 15:25:21

經濟日報記者黃雅慧／綜合報導

陸國產曝光機廠商芯上微裝自主研發的350nm（0.35微米）步進投影曝光機（AST6200）通過大陸化合物半導體領域頭部客戶的工藝驗證，並獲得批量重複訂單。顯示陸產曝光機在化合物半導體領域具備替代進口的能力。大陸目前曝光機趕超進度如何？被西方技術卡脖子快要被攻克了嗎？

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