本文共725字
中美在高科技競爭持續，英國《金融時報》引述2名知情人士透露，大陸晶片大廠中芯國際正在測試大陸首款國產先進晶片生產設備，目標是用於製造人工智慧處理器。
上述2名知情人士稱，中芯國際正在測試由上海新創公司宇量昇生產的28奈米DUV曝光機，正在測試的這款機器用的是浸沒式技術，類似於艾司摩爾（ASML）所採用的技術，將利用該款DUV曝光機用於「多重圖案技術」（multi-patterning）生產7奈米晶片。不過，目前尚不清楚該曝光機是否何時能用於晶片的量產。
報導稱，若上述DUV曝光機能成功量產，這將幫助大陸突破美國對晶片出口管制，降低對西方技術依賴，並提升先進AI處理器產能。貝恩公司（Bernstein）半導體分析師林清遠（Lin Qingyuan）表示，此舉若成功，將成為大陸企業研發更先進設備的重要基礎。
迄今為止，中芯國際和其他大陸晶片製造商一直依賴艾司摩爾生產的設備，但近年來由於美國出口管制，獲得新設備的機會受到限制。另外，大陸仍缺乏最先進的晶片製造工具，即極紫外曝光機（EUV），這種設備曾用於為輝達等公司製造最尖端的晶片。目前，艾司摩爾被禁止向大陸出售EUV設備。
值得注意的是，深圳市矽開利科技有限公司（SiCarrier）為宇量昇股東之一，也投入EUV研發，但仍處於早期階段。SiCarrier今年3月在上海半導體大會展示大量先進設備，挑戰東京電子與應用材料等國際廠商，其設備線以大陸的高山命名，EUV專案內部代號為「珠穆朗瑪峰」。
此外，報導並稱，中芯計劃在2026年將產能提高3倍。大部分增產仍將使用現有艾司摩爾DUV設備，大陸國產設備預計最早2027年開始量產。不過，分析師認為，中芯要從原型機到量產並與艾司摩爾競爭，仍需數年時間。
※ 歡迎用「轉貼」或「分享」的方式轉傳文章連結；未經授權，請勿複製轉貼文章內容
留言