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被認為與華為相關、低調且神祕的深圳晶片設備業者新凱來將在3月底參加中國國際半導體展，這也是該公司的首次亮相。新凱來預告將在半導體展上發布包括峨眉山、武夷山等多款新產品，是否展出5奈米相關設備受到關注，分析認為該公司亮相可能再度拉高大陸科技市場熱度。
據新凱來發布訊息，將在半導體展上發布多款新產品，包括EPI「峨眉山」產品、ETCH「武夷山」產品、CVD「長白山」產品、PVD「普陀山」產品、ALD「阿里山」產品，皆為半導體領域高端產品。
EPI外延層是半導體製造中的重要技術，特別是先進製程和第三代半導體領域；ETCH蝕刻是半導體製造製程一道相當重要的步驟，目前主要由國際廠商主導；CVD化學氣相沉積是半導體製造中需求量最大的設備之一，PVD物理氣相沉積、ALD原子層沉積等都是半導體製造製程當中重要的高端設備。
另外，新凱來與華為的關係也備受熱議，新凱來與華為在半導體領域有技術合作，雙方曾聯合申請並公開了自對準四重成像技術（SAQP）專利，甚至有觀點認為新凱來的產品有望協助華為突破美國的5奈米光刻機上限制。
中國國國際半導體展將於3月26日至28日在上海舉行。
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