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與華為有密切關聯的大陸半導體設備製造商新凱來（SiCarrier），將於下周一場展覽會上首次亮相新產品，是否展出5奈米設備受到關注。
新凱來將在展覽上發表多種新產品，即將發表的產品皆以知名山脈作為代號，包含外延產品（EPI）「峨眉山」、刻蝕系統（ETCH）「武夷山」、化學氣相沉積（CVD）「長白山」，還有原子層沉積工具（ALD）「阿里山」。
儘管新凱來的專利技術引發關注，但量產能力、供應鏈整合仍是待解難題。中華經濟研究院第二研究所暨日本中心副主任江泰槿指出，先進製程晶片製造還要需協同微影、材料、設計工具等多環節突破。「大陸發展像ALD的這些技術，很可能會影響到非半導體的供應鏈，如鍍膜類光學類等其他民生產業，所以台灣也要關注，這些技術可能帶來的影響。」
大陸國家智慧財產權局曾於2024年公告，華為申請了一項名為「自對準四重圖案化半導體裝置的製作方法以及半導體裝置」。彭博根據華為和新凱來向大陸智財局提交文件，認為這項專利有助於減少對高階曝光機的依賴，或能幫助華為與合作夥伴在沒有ASML最先進極紫外光（EUV）曝光設備的情況下，也可以生產出5奈米晶片。
南華早報報導，新凱來由深圳市政府支持，2023年因獲得一項使用現有DUV生產5奈米晶片的專利受到關注，被認為是華為2024年推出Mate 60 Pro手機，內建7奈米晶片的背後關鍵技術。
新凱來相當低調，官網的公司簡介，只提到隸屬於深圳市重大產業投資集團，成立於2021年。也就是華為受到美國更嚴格的技術制裁時。官網並列出4款低技術門檻的晶片設備與產品。同時，官網的新聞信息頁面沒有任何內容，網站上也沒有關於公司所有權或高管團隊的任何資料。
新凱來日前在官方微信帳號發出了第一篇文章，公告將會出席半導體展，文中並自述，是一家「核心半導體設備供應商」，一直致力於「先進半導體設備」的開發與製造。
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