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經濟日報 編譯湯淑君／綜合外電
根據韓媒Ked Global報導，三星電子將斥資1.1兆韓元（7.73億美元），向艾司摩爾（ASML）採購兩台最先進的極紫外光（EUV）微影設備，2026年中就會到貨，再次押注次世代半導體製造，力圖在全球晶片競賽中奪回技術優勢。
報導引述知情人士15日的說法，第一部ASML高數值孔徑（high NA）EUV機台可望今年稍後交貨給三星，第二台訂於明年上半年交貨。
消息來源表示，一台研究用的高數值孔徑EUV已經在三星華城廠區運轉，供研究之用，新一批機器則是首次供量產使用。這部先進設備由ASML研發，蝕刻的電路比目前這一代EUV工具薄1.7倍。
三星董事長李在鎔早在2023年12月就有意採購高數值孔徑EUV，看中生產2奈米以下晶片的潛力，據說已指示三星工程師加速研發相容製程技術，以挑戰台積電的技術領先地位。
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