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三星拚了 傳擬擴大HBM產能、犧牲利潤搶市

據傳三星電子為了搶奪高頻寬記憶體(HBM)市占,不只準備擴大產能,還打算犧牲利潤,以求打入輝達(Nvidia)供應鏈。歐新社
據傳三星電子為了搶奪高頻寬記憶體(HBM)市占,不只準備擴大產能,還打算犧牲利潤,以求打入輝達(Nvidia)供應鏈。歐新社

本文共604字

經濟日報 編譯陳苓/綜合外電

三星電子決心爭取高頻寬記憶體(HBM)市占,據傳不只平澤五廠準備恢復施工,以便擴大產能,還打算犧牲利潤,好打入輝達(Nvidia)供應鏈。

綜合韓媒BusinessKorea、the Bell、科技媒體wccftech報導,半導體業界人士透露,工人在三星的平澤五廠搬運建材、並接受安全訓練,準備最快下個月施工。該廠原訂去年啟動工程,但因半導體市況欠佳而延後。三星興建平澤五廠,意在擴大供給HBM。

三星打算先量產HBM3E給輝達,接著設法取得在新一代記憶體HBM4的優勢。

HBM3E是目前HBM市場的領導者,用於輝達Blackwell圖形處理器(GPU),三星可望在在本月通過輝達的HBM3E驗證。HBM4將用於輝達下代GPU「Rubin」。三星HBM研發速度,大約落後SK海力士三個月,三星想靠強化產能來快速追趕。

韓媒指出,三星增產搶市之外,還準備發動價格戰,給予輝達的HBM4報價,將讓競爭對手難以比擬;三星願意犧牲利潤,只為打入輝達的供應夥伴名單。

文章稱,輝達預計在明年第1季完成HBM4驗證,並敲定HBM4供應商與下單數量。三星為加快供給,擬導入10奈米級1c DRAM製程,據悉這是業界最先進的製程。並有消息說,三星擬用艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV) 微影設備。

半導體人士指出,記憶體市場預料在明年逐漸復甦,HBM需求可望續增,外界解讀三星預先確保產能,以免錯失商機。

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