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SK海力士創業界之先 以 ASML 的 High NA EUV 設備量產

SK海力士率業界之先正式導入High NA EUV量產。路透
SK海力士率業界之先正式導入High NA EUV量產。路透

本文共137字

經濟日報 編譯劉忠勇/綜合外電

SK海力士發布新聞稿說,位於南韓利川的M16晶圓廠引進高數值孔徑(High NA)極紫外光(EUV)微影設備的組裝,率業界之先正式導入量產。

SK海力士引進艾司摩爾(ASML)的EXE:5200B機型,計劃簡化現行EUV製程,加速新一代記憶體開發,以提升產品效能和成本競爭力。

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