挑戰ASML！應材推新機台減少微影成本 英特爾已採用

美國半導體設備大廠應用材料（Applied Materials）已開始銷售一種晶片製造設備，它能讓產業降低對荷蘭艾司摩爾（ASML）的依賴，而且能以更便宜的成本來生產能處理人工智慧（AI）任務的超強大半導體。

應材的Centura Sculpta機器是所謂的圖案成形系統，讓客戶減少必須花在微影製程的時間，微影是利用光將電路圖案燒在晶圓上過程。應材2月28日表示，微影技術已變得愈來愈複雜且昂貴，新的做法將協助簡化晶片的製造並減少浪費。

彭博資訊報導說，應材此舉可能會擾亂目前由ASML機台稱霸的微影市場。雖然應材並非是直接挑戰ASML，但卻嘗試反思產業製造晶片的方式。

應材股價28日大漲3.6%至每股116.15美元；ASML在阿姆斯特丹交易的股價同日跌1.9%至每股584歐元（618美元）。可讓晶片儲存和存取數據的電路圖案是燒在晶圓上，接著用其他金屬和其他物質填滿。這種製程中的微影階段已變得愈來愈困難，原因是電路尺寸縮小，小到比多數光源的波長還要小。

ASML的極紫外光設備（EUV）能夠處理這些先進半導體的製程，EUV機台更是該公司的「搖錢樹」，其銷量自2019年來已增加近一倍， ASML預期今年營收成長25%。相較下，其他晶片設備產業正面臨營收萎縮的局面，原因是客戶正在應付庫存過剩的窘境。

在半導體產業中，一台設備的價格動輒超過1,000萬美元，而ASML的機台是其中最貴的機台之一。不過，ASML的方法有其缺陷，晶片的某些部分需要多重曝光，必須進行兩次以上的曝光才能達到預期的效果。

應材的新機器則利用電力活化化學技術來完成製程的這一部分，不再需要一些多重曝光。應材主管若傑（Prabu Raja）在聲明中表示，這樣的想法是要「補充」紫外光微影，同時處理先進晶片製造的經濟與環境問題。

根據Cowen分析師桑卡爾的看法，這種新設備有望為應材年營收增加2億至3億美元，但短期內不會削弱ASML的EUV營收。

根據應材的說法，採用這套新系統的晶片業者，在運作每月處理10萬片晶圓的產線規模情況下，可節省多達2.5億美元的資本費用，每片晶圓能節省50美元的成本、節能效益達15度電、省下15公升的水，減少排出0.35公斤的二氧化碳。

應材這項新產品主要用於生產先進邏輯晶片，例如輝達用於AI的繪圖處理器。世界上目前只有台積電、三星和英特爾專精這類型晶片的生產。應材說，英特爾是已經擁抱這項新做法的公司。