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三星電子傳出採購ASML高數值孔徑EUV工具 2024年初使用

三星電子傳出與艾司摩爾談成的協議,將採購18台EUV微影設備並引進高數值孔徑EUV工具。路透
三星電子傳出與艾司摩爾談成的協議,將採購18台EUV微影設備並引進高數值孔徑EUV工具。路透

本文共640字

經濟日報 編譯季晶晶/綜合外電

南韓媒體Business Korea報導,三星電子公司副會長李在鎔6月中歐洲行的成果,現在有更多細節透露出來,他已經和艾司摩爾(ASML)達成協議,引進下一代極紫外光(EUV)工具。

李在鎔在荷蘭當地時間6月14日與艾司摩爾執行長溫彼德(Peter Wennink)和技術長布令克(Martin van den Brink)會面並達成協議,將引進今年生產EUV微影設備,以及預定明年推出的高數值孔徑EUV,後者是下一代技術,與現有的EUV微影設備相比,可以雕刻更精細的電路,將決定3奈米以下代工市場技術競賽的贏家。

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高數值孔徑EUV的單價值計為5,000億韓元(約為台幣125億元),是現有EUV微影設備的兩倍。

艾司摩爾今年只能生產大約50台EUV微影設備,交貨期為一年半。該公司生產能力有限,加上交貨期拉長,點燃半導體廠對預購高數值孔徑EUV的競爭。

英特爾今年稍早宣布,已簽約購買5台這種設備,用來在2025年生產1.8奈米晶片。台積電也在本月16日的美國矽谷技術論壇表示,將在2024年率先全球引進該設備。

三星電子尚未決定高數值孔徑EUV實際應用於半導體製程的具體時間。但考慮到交貨時間,預計2024年初會實際使用該設備。

南韓產業人士呼籲首爾政府,對半導體設施的投資給予更多支持,以增強南韓的工業競爭力。根據報導,三星電子已確保能取得計畫今年生產55台EUV微影設備中的18台,這意味僅僅這項設備,三星電子的投資就超過4兆韓元,如果再採購10台高數值孔徑EUV,將砸進逾5兆韓元。

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