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新聞解析/英特爾追趕台積電 想從歐洲超車

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英特爾想趕上台積電,除在歐洲建新廠外,更重要的可能是最先取得下一代艾司摩爾EUV設備。路透

本文共936字

經濟日報 編譯季晶晶/綜合外電

英特爾(Intel)周二宣布,未來10年可能投資高達800億歐元(約950億美元)在歐洲興建兩座新廠,以提升該地區晶片產能,同時開放愛爾蘭半導體廠代工,為汽車製造商生產車用晶片。

這些舉動合乎英特爾-在政府補貼之下-積極擴張產能的最新策略,滿足英特爾設計晶片的市場需求,同時開始代工生產其他公司設計的晶片。後者讓英特爾與台積電(2330)(2330)有更直接的競爭。

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台積電在晶片製造技術上領先英特爾,並能協助晶片大廠超微(AMD)和輝達(Nvidia)在關鍵市場挑戰英特爾。

英特爾想拉近和台積電的差距,不只需要加設晶圓廠。該公司7月透露的超車計畫,很大程度仰賴於確定能取得荷蘭公司艾司摩爾(ASML)的下一代極紫外光光刻機(EUV),後者以最先進晶片製程必備的EUV稱霸市場。

英特爾執行長基辛格(Pat Gelsinger)7月下旬曾強調,他的公司與艾司摩爾之間強力的合作關係,還補充說,艾司摩爾一推出EUV新設備,英特爾會馬上採用。

但想買艾司摩爾EUV的公司有長長一大串:台積電、三星電子、美光科技,以及幾乎是其他想維持晶片生產領先優勢的每家廠商,英特爾插隊到最前面的做法似乎是:早早出聲支持取名high-Na的下一代EUV。英特爾7月表示,計劃搶先業界自2025年起在製程採用此一尚待驗證的工具。

研究機構Semiconductor Advisors分析師Robert Maire周二撰寫研究報告說,如果英特爾成功地最先取得艾司摩爾那些工具,「可能在摩爾定律的競賽中領先台積電」。

但代價不會便宜。艾司摩爾正努力提升EUV設備的產量;目前計劃明年交貨455台,2023年超過60台,本月底召開分析師會議時會揭露更多擴張計畫。該公司今年的資本支出帳單已大幅增加到12億美元,遠高於2018年的6.57億美元,而英特爾未來3年每年資本支出則近200億美元。但同期間,台積電預料每年資本支出超過300億美元,雖然以其支配地位而言,比較沒理由要冒險灑錢在尚待開發的技術。

在落後頗多的情況下超車,重回排頭,需要大膽行動。對英特爾來說,歐洲掌握的關鍵,可能不只一處。

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