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大家知道先進製程半導體的極紫外光微影(EUV)曝光機全世界只有ASML能做，但可能不清楚極紫外光微影(EUV)曝光用的塗布/顯影設備，也有市占率高達100%的公司，那就是日本東京威力科創公司，在半導體設備業具有舉足輕重的地位，董事長河合利樹日前接受採訪時，提供很有參考性的看法。
1.晶圓廠設備市場規模2023年會減少，原因是記憶體庫存過多、通貨膨脹影響消費，以及個人電腦和智慧型手機需求減少。
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